SMAC formaliza parceria com a FASF para programa de estágio
Alunos do curso de Psicologia poderão atuar nos CRAS, CREAS e unidades de acolhimento de Volta Redonda
O secretário municipal de Ação Comunitária (SMAC), Munir Francisco, formalizou nesta semana uma parceria entre a pasta e a Faculdade Sul Fluminense (FASF) para que alunos de Psicologia da instituição de ensino possam estagiar na rede de Assistência Social de Volta Redonda.
O convênio não tem custo para o município e possibilitará que estudantes tenham contato com as áreas em que atuarão como profissionais graduados.
Munir explicou que um cronograma está sendo criado junto à FASF, com intuito de absorver os alunos para atuarem nas 35 unidades do Centro de Referência de Assistência Social (CRAS), no Centro de Referência Especializada em Assistência Social (CREAS), além de Centros POP e Dia, Residência Inclusiva, entre outros.
O objetivo é que os universitários cumpram suas horas de estágio próximo às suas residências e trabalhos.
“Todos nós sabemos que o prefeito Neto pegou uma cidade destruída e não foi diferente na Assistência Social. Quando reassumimos a pasta em janeiro, encontramos os 35 CRAS e outros equipamentos que deixamos funcionando em 2016, fechados. Estamos revitalizando e reabrindo todas as unidades e com isso, precisaremos de mão de obra. Como esses alunos precisam das horas de estágio para concluir seus cursos, nada melhor do que absorvermos a demanda. Quem sai ganhando é a população que terá um atendimento ampliado e mais eficiente”, destacou Munir.
O diretor geral da FAST, professor Claudio Alvares Menchise, comemorou a parceria. Ele disse que espera que os alunos possam ser absorvidos pelo mercado após a experiência na rede de Assistência Social do município.
“Ver nossos alunos com essa possibilidade de estagiar na Prefeitura de Volta Redonda, o que com certeza abrirá as portas para um futuro emprego no município, é motivo de muita alegria. Estamos muito satisfeitos em poder contribuir para o bem da população volta-redondense”, celebrou.
